溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。其中靶材就是做芯片的重要材料。Z知名的就是国外芯片——英伟达，一直属于行业龙头老大。但是随着中国的实力日渐强度，我们的华为已经自主的研发生产出与之抗衡的电子芯片。彻底打破了一直采用国外技术的这一现象。
像超大规模集成电路芯片制造领域是溅射靶材Z高端的应用，其对溅射靶材金属纯度的要求Z高，通常要求达到99.9995%(5N5)以上，平板显示器、太阳能电池用铝靶的金属纯度略低，分别要求达到99.999%(5N)、99.995%(4N5)以上。达99.999(而一般金属也就99.8的纯度)。
溅射靶材这个行业具有技术密集和资本密集双重特性、且行业认证壁垒高(认证过程一般需要2-3年)，长期以来全球溅射靶材研制和生产被日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯、住友化学、爱发科等美日少数几家公司所垄断。
目前，高纯溅射靶材主要应用于半导体芯片、液晶显示器、太阳能电池等领域，其中，半导体芯片占据了较大的市场份额。意味着今后几乎所有的科技产品都要用到溅射靶材
未来随着智能手机、平板电脑、汽车电子等终端消费领域对半导体需求的持续增长，将进一步提升半导体、平板显示器等市场容量。尤其是平板显示方面，中国已成为继日本和韩国之后全球第三大平板显示产业大国，市场占有率超过17%，随着京东方重庆8.5代线、华星光电深圳8.5代线二期和中电熊猫南京8.5代线的相继建成投产，以及2014年投产的诸多产线陆续度过爬坡期进入量产期平板显示器件产业整体规模仍有望实现快速增长，而液晶显示用溅射靶材尺寸普遍较大，将为溅射靶材生产厂商提供更加广阔的发展空间。
